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深圳市鸿明精密电路有限公司

PCB图形电镀均匀性改善方法
来源: | 作者:id20854921 | 发布时间: 2018-01-30 | 8019 次浏览 | 分享到:


对浮槽侧面9 个区域进行开孔:每个区钻5 排孔,间隔为15mm,直径5mm。如图6 所示: 

测试其总体COV 为13.4%,深方向平均铜厚差异为3.6um,如下图7 所示。说明还得想办法使得最底部的电力线分布再稀疏些。 



图7 浮槽侧面开5mm 圆孔后测试的铜厚分布图 

6.3 浮槽圆孔优化: 

对浮槽侧面区域:钻四排孔,第一排为直径10mm,其余三排直径为5mm,孔中心间距都为15mm。 

改造后测试总体COV 为10.3%,深方向镀铜厚度平均差异为2.6um,已小于3um 目标,如图9 所示:板子最底部的铜厚分布差异有所减小,达到改造预期要求。 

图8 浮槽侧面圆孔优化改造示意图 


7、改造后总体测试效果: 

结合5.2 和6.3 的改造结论,对其余7 个电镀缸进行了全面改造----在每个缸体上增加了阳极挡板,对每个缸浮槽进行开孔改造。改造后我们随即抽取15#电镀缸进行测试,以便确认改造效果。 



图9 浮槽侧面圆孔优化后www.pcblover.com正面深方向铜厚分布图 

图10 全面改造后15#缸正面深方向铜厚分布图 

深方向镀铜厚度差异为2.8um,整板COV为7.9%,与在12# 缸测试的结果比较接近,符合改造目标要求,如图10 所示。 

8、结束语: 

历经多次电镀均匀性的测试和设备改造,该图形电镀线的电镀均匀性从原来的20.8%,提高到了改善后的10.3%。深方向平均铜厚的差异也由原来的8.9um 降低到小于3um。目前间距为3.5mil板加工时,夹膜以及铜厚问题基本得到改善。

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